The effect of argon dilution on deposition of microcrystalline silicon by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition
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DOI：
10.1016/j.tsf.2006.11.156
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发表时间：
2007-07
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
W. Soppe;C. Devilée;M. Geusebroek;J. Loffler;H. Muffler
中科院分区：
文献类型：
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作者：
W. Soppe;C. Devilée;M. Geusebroek;J. Loffler;H. Muffler
