SiFx+イオン照射によるSi, Si3N4およびSiO2エッチング反応解析
SiFx+イオン照射によるSi, Si3N4およびSiO2エッチング反応解析
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SiFx+离子辐照分析Si、Si3N4和SiO2蚀刻反应
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
伊藤智子
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N.Kase;et al.;T.Kaneko;伊藤智子
