Improvement in the crystalline quality of homoepitaxial diamond films by oxygen plasma etching of mirror-polished diamond substrates
Improvement in the crystalline quality of homoepitaxial diamond films by oxygen plasma etching of mirror-polished diamond substrates
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通过镜面抛光金刚石基体的氧等离子体蚀刻提高同质外延金刚石薄膜的结晶质量
DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2005.08.019
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发表时间：
2005
影响因子：
1.8
通讯作者：
T. Ito
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Yamamoto;T. Teraji;T. Ito
