Single-mode-resonance interference in photoresist sub-micron waveguide for high exposure depth nanolithography
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DOI：
10.1016/j.mee.2016.01.004
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发表时间：
2016-03
影响因子：
2.3
通讯作者：
Zheng Yang;Zhiyou Zhang;Peng Wu;Liang-ping Xia;Shao-yun Yin;Jinglei Du
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Zheng Yang;Zhiyou Zhang;Peng Wu;Liang-ping Xia;Shao-yun Yin;Jinglei Du
