Oxygen precipitation in 1020 cm23 germanium-doped Czochralski silicon
Oxygen precipitation in 1020 cm23 germanium-doped Czochralski silicon
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1020 cm23 掺锗直拉硅中的氧沉淀
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Deren Yang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shuai Yuan;Xuegong Yu;Xiangyang Ma;Deren Yang
