Growth of VO_2 films wtih metal-insulator transition on silicon substrates in inductively coupled plasma-assisted sputtering
Growth of VO_2 films wtih metal-insulator transition on silicon substrates in inductively coupled plasma-assisted sputtering
复制标题
电感耦合等离子体辅助溅射硅衬底上金属-绝缘体转变VO_2薄膜的生长
DOI：
--
复制
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Kunio Okimura and N.Kubo
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M.Murakami;M.M.Basko;Kunio Okimura and N.Kubo
