Friction characteristics of a-C:H films deposited by plasma immersion ion implantation using pulsed-DC plasma
Friction characteristics of a-C:H films deposited by plasma immersion ion implantation using pulsed-DC plasma
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使用脉冲直流等离子体通过等离子体浸没离子注入沉积的 a-C:H 薄膜的摩擦特性
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
N. Sakudo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N. Ikenaga;N. Sakudo
