W.Chen: "ECR Plasma Behavior and CVD in CH_4 and H_2 gas Mixture" Proc.of 7th Symp.on Plasma Processing,Tokyof,1990. 97-100 (1990)
W.Chen: "ECR Plasma Behavior and CVD in CH_4 and H_2 gas Mixture" Proc.of 7th Symp.on Plasma Processing,Tokyof,1990. 97-100 (1990)
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W.Chen：“CH_4 和 H_2 气体混合物中的 ECR 等离子体行为和 CVD”Proc.of 7th Symp.on Plasma Process，东京，1990。
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