単原子交互積層法によるL1_0型FeNi規則合金薄膜の成長と磁気特性
単原子交互積層法によるL1_0型FeNi規則合金薄膜の成長と磁気特性
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单原子逐层法生长L1_0型FeNi有序合金薄膜及其磁性能
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
嶋敏之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
水口将輝;関谷茂樹;三谷誠司;高梨弘毅;嶋敏之
