Molecular dynamics simulation of pattern formation in electron beam lithography
Molecular dynamics simulation of pattern formation in electron beam lithography
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电子束光刻图案形成的分子动力学模拟
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Yasuda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Akihiro Toya;Yoshihiro Masui;Mitsutoshi Sugawara;Tomoaki Maeda;Masahiro Ono;Yoshitaka Murasaka;Atsushi Iwata;and Takamaro Kikkawa;M. Yasuda
