Growth behaviour of polyaniline films deposited by pulse potentiostatic method
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DOI：
10.1016/s0254-0584(00)00259-5
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发表时间：
2000-08
影响因子：
4.6
通讯作者：
V. Rajendran;A. Gopalan;T. Vasudevan;Wei Chih Chen;T. Wen
中科院分区：
文献类型：
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作者：
V. Rajendran;A. Gopalan;T. Vasudevan;Wei Chih Chen;T. Wen
