Polishing Simulation of Gallium Nitride Substrate Assisted by Chemical Reactions with Hydroxyl Radicals
Polishing Simulation of Gallium Nitride Substrate Assisted by Chemical Reactions with Hydroxyl Radicals
复制标题
羟基自由基化学反应辅助氮化镓衬底的抛光模拟
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Momoji Kubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kentaro Kawaguchi;Takuya Igarashi;Yuji Higuchi;Nobuki Ozawa;and Momoji Kubo
