Y. Tomioka et al.: "Characterization of the Interfaces between SiC and Oxide Films by Spectroscopic Ellipsometry"Materials Science Forum. 389-393. 1029-1032 (2002)
Y. Tomioka et al.: "Characterization of the Interfaces between SiC and Oxide Films by Spectroscopic Ellipsometry"Materials Science Forum. 389-393. 1029-1032 (2002)
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Y. Tomioka 等人：“通过椭圆偏振光谱法表征 SiC 和氧化物薄膜之间的界面”材料科学论坛。
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