Unterdrückung des Defektwachstums

Unterdrückung des Defektwachstums
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防卫研究

DOI:
10.1002/vipr.201000412
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发表时间:
2010
影响因子:
0.1
通讯作者:
Otmar Zimmer
Otmar Zimmer
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
Frank Kaulfuß;Otmar Zimmer

文献摘要

被引文献

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在Schichtdicken温度约为10 μm时,金属氮化物、氧化态的氧化变态Kohlenstoffschichten werden gewöhnlich。
Klassische Hartstoffschichten, wie z. B. Metallnitride, ‐oxide oder hartamorphe Kohlenstoffschichten werden gewöhnlich in Schichtdicken bis ca. 10 μm angewendet.