Approaching Gas Phase Electrodeposition: Process and Optimization to Enable the Self-Aligned Growth of 3D Nanobridge-Based Interconnects
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DOI：
10.1002/adma.201503039
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发表时间：
2016-03-02
影响因子：
29.4
通讯作者：
Jacobs, Heiko O.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Fang, Jun;Schlag, Leslie;Jacobs, Heiko O.
德国伊尔梅瑙理工学院5街，D-98693，伊尔梅瑙
Fachgebiet Werkstoffe der Elektrotechnik Technische Universität Ilmenau Gustav-Kirchhoff-Strasse 5, D-98693 Ilmenau, Germany