Thin epitaxial CeO2 films prepared by aerosol MOCVD
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DOI：
10.1016/0167-577x(94)90244-5
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发表时间：
1994-12
影响因子：
3
通讯作者：
K. Fröhlich;D. Machajdík;F. Weiss;B. Bochu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Fröhlich;D. Machajdík;F. Weiss;B. Bochu
