Reforming of Thermally Oxidized Film on GaN by Annealing with High-Temperature and High-Pressure Water
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复制标题
高温高压水退火对GaN热氧化膜的改性
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yukiharu Uraoka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuki Tada;Masahiro Horita;Koji Yoshitsugu;Yasuaki Ishikawa;Yukiharu Uraoka
