バルクSi基板中のSiCナノドットサイズのプロセス依存性

バルクSi基板中のSiCナノドットサイズのプロセス依存性
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块状硅衬底中碳化硅纳米点尺寸的工艺依赖性

DOI:
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发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
山本将輝,青木孝,鮫島俊之,水野智久
山本将輝,青木孝,鮫島俊之,水野智久
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
金澤力斗;青木孝,鮫島俊之,水野智久;山本将輝,青木孝,鮫島俊之,水野智久

文献摘要

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