Kiyokazu YASUDA,Toshihiro IWASAKI,Syuji NAKATA: "“Surface Modification of Si Wafer by Scanning Tunneling Microscope"" Japanese Journal of Applied Physics. (in preparation for publication).
Kiyokazu YASUDA,Toshihiro IWASAKI,Syuji NAKATA: "“Surface Modification of Si Wafer by Scanning Tunneling Microscope"" Japanese Journal of Applied Physics. (in preparation for publication).
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Kiyokazu YASUDA、Toshihiro IWASAKI、Syuji NAKATA：““通过扫描隧道显微镜对硅晶片进行表面改性””《日本应用物理学杂志》（准备出版）。
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