Extreme-ultraviolet and electron beam lithography processing using water developable resist material
Extreme-ultraviolet and electron beam lithography processing using water developable resist material
复制标题
使用水可显影抗蚀剂材料进行极紫外和电子束光刻加工
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Makoto Hanabata
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Satoshi Takei;Naoto Sugino;Makoto Hanabata
