細孔表面ラフネスを考慮した規則シリカ多孔体モデルによる吸着ヒステリシス機構の解明
細孔表面ラフネスを考慮した規則シリカ多孔体モデルによる吸着ヒステリシス機構の解明
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使用考虑孔表面粗糙度的有序二氧化硅多孔材料模型阐明吸附滞后机制
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
平塚 龍将
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tatsumasa Hiratsuka;Hideki Tanaka;Minoru T. Miyahara;平塚 龍将，田中 秀樹，宮原 稔;平塚 龍将
