Y.Mori, H.Kakiuchi, K.Yoshii, K.Yasutake, H.Ohmi: "Characterization of hydrogenated amorphous Si_<1-x>C_x films prepared at extremely high rates using very high frequency plasma at atmospheric pressure"J. Phys.D : Applied Physics. 36,23. 3057-3063 (2003)
Y.Mori, H.Kakiuchi, K.Yoshii, K.Yasutake, H.Ohmi: "Characterization of hydrogenated amorphous Si_<1-x>C_x films prepared at extremely high rates using very high frequency plasma at atmospheric pressure"J. Phys.D : Applied Physics. 36,23. 3057-3063 (2003)
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Y.Mori、H.Kakiuchi、K.Yoshii、K.Yasutake、H.Ohmi：“在大气压下使用甚高频等离子体以极高速率制备的氢化非晶 Si_1-x>C_x 薄膜的表征”J。
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