K.Nakamura 他1名: "Control of Wall Polymer Deposition and Stabilization of Radical Density in Fluorocarbon Inductively-Coupled Plasmas"Int Symp.Dry Process 2001. 213-218 (2001)

K.Nakamura 他1名: "Control of Wall Polymer Deposition and Stabilization of Radical Density in Fluorocarbon Inductively-Coupled Plasmas"Int Symp.Dry Process 2001. 213-218 (2001)
复制标题

K. Nakamura 等人:“氟碳感应耦合等离子体中壁聚合物沉积的控制和自由基密度的稳定” Int Symp. 2001. 213-218 (2001)

DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
--
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:

文献摘要

相似文献