T. Matsuura, K. Suzue, J. Murota, Y. Sawada, and T. Ohmi,: "Self-limited Atomic-Layer Etching of Si," the 5th International Symposium on Ultra Large Scale Integration Science and Technology. 109-115 (1995)
T. Matsuura, K. Suzue, J. Murota, Y. Sawada, and T. Ohmi,: "Self-limited Atomic-Layer Etching of Si," the 5th International Symposium on Ultra Large Scale Integration Science and Technology. 109-115 (1995)
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T. Matsuura、K. Suzue、J. Murota、Y. Sawada 和 T. Ohmi，：“硅的自限原子层蚀刻”，第五届超大规模集成科学与技术国际研讨会。
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