High Growth Rate in Atomic Layer Deposition of TiO2 thin films by UV Irradiation
High Growth Rate in Atomic Layer Deposition of TiO2 thin films by UV Irradiation
复制标题
紫外照射下原子层沉积 TiO2 薄膜的高生长速率
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
R. Waser
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Kim;S. Hoffmann‐Eifert;R. Waser
