Stable Observation of the Evolution of Leakage Spots in HfO_2/SiO_2 Stacked Structures

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HfO_2/SiO_2叠层结构漏斑演变的稳定观察

DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Ext.Abst. 2004 Int.Conf. Solid State Dev.Mater. (SSDM)
影响因子：
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通讯作者：
A.Toriumi
A.Toriumi
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
K.Kyuno;K.Kita;A.Toriumi

文献摘要

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