All-epitaxial Co2FeSi/Ge/Co2FeSi trilayers fabricated by Sn-induced low-temperature epitaxy
All-epitaxial Co2FeSi/Ge/Co2FeSi trilayers fabricated by Sn-induced low-temperature epitaxy
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Sn诱导低温外延制备全外延Co2FeSi/Ge/Co2FeSi三层材料
DOI：
10.1063/1.4940702
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发表时间：
2016
影响因子：
3.2
通讯作者：
and K. Hamaya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Yamada;K. Tanikawa;J. Hirayama;T. Kanashima;T. Taniyama;and K. Hamaya
