フェムト秒レーザ照射誘起改質を応用したNi/SiC界面における低温拡散
フェムト秒レーザ照射誘起改質を応用したNi/SiC界面における低温拡散
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使用飞秒激光辐照诱导改性在 Ni/SiC 界面进行低温扩散
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
渕上裕暉，橋本拓哉，川上博貴，植木智之，富田卓朗，岡田達也，田中康弘
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tatsuya Okada;Takuro Tomita;Tomoyuki Ueki;Yuki Masai;Yota Bando;Yasuhiro Tanaka;渕上裕暉，橋本拓哉，川上博貴，植木智之，富田卓朗，岡田達也，田中康弘
