a-Si膜の熱プラズマジェット結晶化における基板加熱効果

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非晶硅薄膜热等离子体射流晶化中的基片加热效应

DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
薄膜材料デバイス研究会第3回研究集会 予稿集
影响因子:
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通讯作者:
宮崎 誠一
宮崎 誠一
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
加久 博隆;東 清一郎;寄本 拓也;岡田 竜弥;村上 秀樹;宮崎 誠一

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