イオン応答性 Frustrated Lewis Pair 含有π電子系の合成と光特性
イオン応答性 Frustrated Lewis Pair 含有π電子系の合成と光特性
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离子响应受阻路易斯对π电子体系的合成和光学性质
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
岡田 修司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山門 陵平;山家 敬弘;鍋田 寛之;太田 彩貴;岡田 修司
