K.Nakamura et al: "High-Speed Dry Etching of Indium-Tin-Oxide Films Using Inductively Coupled rf Plasmas" Jpn.J.Appl.Phys.33. 4438-4441 (1994)
K.Nakamura et al: "High-Speed Dry Etching of Indium-Tin-Oxide Films Using Inductively Coupled rf Plasmas" Jpn.J.Appl.Phys.33. 4438-4441 (1994)
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K.Nakamura 等人：“使用感应耦合射频等离子体对氧化铟锡薄膜进行高速干式蚀刻”Jpn.J.Appl.Phys.33。
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