紫外光分解を用いたポリシランフィルムの新しい応用展開

紫外光分解を用いたポリシランフィルムの新しい応用展開
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紫外光解聚硅烷薄膜新应用开发

DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
日本接着学今誌 41・5
影响因子:
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通讯作者:
横山正明
横山正明
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
櫻井芳昭;長山智男;横山正明

文献摘要

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