Two-dimensional extreme skin depth engineering for CMOS photonics
Two-dimensional extreme skin depth engineering for CMOS photonics
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CMOS 光子学的二维极限趋肤深度工程
DOI：
10.1364/josab.416848
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Howland, Gregory A.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
van Niekerk, Matthew;Jahani, Saman;Bickford, Justin;Cho, Pak;Anderson, Stephen;Leake, Gerald;Coleman, Daniel;Fanto, Michael L.;Tison, Christopher C.;Howland, Gregory A.
影响因子：
3.8
作者：
McKinnon, W. R.;Xu, D. -X.;Janz, S.
通讯作者：
Janz, S.
影响因子：
16.6
作者：
Jahani S;Kim S;Atkinson J;Wirth JC;Kalhor F;Noman AA;Newman WD;Shekhar P;Han K;Van V;DeCorby RG;Chrostowski L;Qi M;Jacob Z
通讯作者：
Jacob Z