K. Okimura: "Role of He Gas Mixture on the Gowth of Anatase and Rutile TiO_2 Films in RF Magnetron Sputtering" Jpn.APPl.Phys.36巻・5A. 2849-2855 (1997)
K. Okimura: "Role of He Gas Mixture on the Gowth of Anatase and Rutile TiO_2 Films in RF Magnetron Sputtering" Jpn.APPl.Phys.36巻・5A. 2849-2855 (1997)
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K. Okimura：“RF 磁控溅射中 He 气体混合物对锐钛矿和金红石 TiO_2 薄膜生长的作用”Jpn.APPl.Phys.Volume 36・5A (1997)。
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