Calculated C–MoSi2 and B–Mo5Si3 pseudo-binary phase diagrams for the use in advanced materials processing
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DOI：
10.1016/s0921-5093(99)00593-6
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发表时间：
2000-02
期刊：
影响因子：
6.4
通讯作者：
X. Fan;K. Hack;T. Ishigaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
X. Fan;K. Hack;T. Ishigaki
