H.Ishiwara: "Lateral solid phase epitaxy of amorphous Si films under ultrahigh pressure" Jpn.J.Appl.Phys.32. 308-311 (1993)
H.Ishiwara: "Lateral solid phase epitaxy of amorphous Si films under ultrahigh pressure" Jpn.J.Appl.Phys.32. 308-311 (1993)
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H.Ishiwara：“超高压下非晶硅薄膜的横向固相外延”Jpn.J.Appl.Phys.32。
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