Thermoelectric Properties of Si/Ge Multi-nanolaye Films Prepared by Ion-beam Sputtering Technique

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离子束溅射技术制备Si/Ge多层纳米薄膜的热电性能

DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Abs.2004 Intern.Sypmp.on Organic and Inorganic Materials and Related Nanotechnologies
影响因子：
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通讯作者：
T.Hata
T.Hata
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
M.Kitai;H.Watase;K.Sasaki;T.Hata

文献摘要

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