Divalent metal ion buffers with low pH-sensitivity
Divalent metal ion buffers with low pH-sensitivity
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具有低 pH 敏感性的二价金属离子缓冲液
DOI：
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发表时间：
1973
期刊：
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通讯作者：
H. Wolf
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Wolf
Es韦尔登Puffersysteme für divalente Metallionen beschrieben，die im Bereich von etwa pH 6-10 gegenüber den herkömmlichen Metallpuffern eine bemerkenswert niedrige pH-Abhängigkeit der Metallionenkonzentration und der Pufferkapazität zeigen.该Puffer系统由一个单一的复合材料（聚氨基碳）和两个不同的金属材料组成，通过在Konkurrenz stehen中的复合材料结合。如果您是Metallion，您将获得韦尔登的中央情报局的支持，并将获得Primärion的支持。这两个离子，这两个Sekundärion gennt，soll vom Komplexbilitary mindestens um den Factor 10-100 schwacher gebunden韦尔登。Die Gesamtkonzentration des Primärions ist geringer als diejenige des Komplexbildners，während die Summe der Gesamtkonzentrationen der beiden divalenten Metallionen höher ist als diejenige des Komplexbildners. Die Konzentration des freien Primärions kann in den beschriebenen Puffersystemen auf drei verzenedene Arten variiert韦尔登：1. durch Änderung der Gesamtkonzentration des Primärions，2. durch Änderung der Gesamtkonzentration des Sekundärions，und 3.通过这种方式，一个复杂的图像与金属和质子的扩散是一致的。
Es werden Puffersysteme für divalente Metallionen beschrieben, die im Bereich von etwa pH 6–10 gegenüber den herkömmlichen Metallpuffern eine bemerkenswert niedrige pH-Abhängigkeit der Metallionenkonzentration und der Pufferkapazität zeigen. Die Puffersysteme bestehen aus einem starken Komplexbildner (vorzugsweise einer Polyaminocarbonsäure) und zwei verschiedenen, divalenten Metallionen, die bezüglich der Bindung durch den Komplexbildner in Konkurrenz stehen. Dasjenige Metallion, dessen Konzentration gepuffert werden soll, wird als Primärion bezeichnet. Das zweite Ion, das Sekundärion genannt wird, soll vom Komplexbildner mindestens um den Faktor 10–100 schwacher gebunden werden. Die Gesamtkonzentration des Primärions ist geringer als diejenige des Komplexbildners, während die Summe der Gesamtkonzentrationen der beiden divalenten Metallionen höher ist als diejenige des Komplexbildners. Die Konzentration des freien Primärions kann in den beschriebenen Puffersystemen auf drei verschiedene Arten variiert werden: 1. durch Änderung der Gesamtkonzentration des Primärions, 2. durch Änderung der Gesamtkonzentration des Sekundärions, und 3. durch die Wahl eines passenden Komplexbildners mit entsprechenden Metallionen- und Protonendissoziationskonstanten.