In-plane strain effects on dielectric properties of the HfO2 thin film
In-plane strain effects on dielectric properties of the HfO2 thin film
复制标题
面内应变对 HfO2 薄膜介电性能的影响
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S.Wakui
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Inoue;T. Chiba;A. Natori;J. Nakamura;S.Wakui
