T.Emoto: "Strain near SiO_2-Si interface revealed by X-ray diffraction intensity enhancement"Thin Solid Films. 369・1&2. 281-284 (2000)
T.Emoto: "Strain near SiO_2-Si interface revealed by X-ray diffraction intensity enhancement"Thin Solid Films. 369・1&2. 281-284 (2000)
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T.Emoto：“通过X射线衍射强度增强揭示SiO_2-Si界面附近的应变”Thin Solid Films 369・1&2（2000）。
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