Ion beam synthesized silicides: growth, characterization and devices
Ion beam synthesized silicides: growth, characterization and devices
复制标题
离子束合成硅化物：生长、表征和器件
DOI：
10.1016/s0040-6090(00)01742-9
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发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
T. Butler
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Homewood;K. Reeson;R. Gwilliam;A. Kewell;M. Lourenço;G. Shao;Y. Chen;J. Sharpe;C. McKinty;T. Butler
