UHVスパッタエピタキシー法によるAlN層の成長（Ⅰ）
UHVスパッタエピタキシー法によるAlN層の成長（Ⅰ）
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特高压溅射外延法生长AlN层（一）
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
六倉 信喜
中科院分区：
文献类型：
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作者：
長田 拓也;岩元 正紀;福田 直樹;水野 愛;安藤 毅;篠田 宏之;六倉 信喜
