Erosion behavior of carbon deposition layers formed by hydrogen plasm a sputtering
Erosion behavior of carbon deposition layers formed by hydrogen plasm a sputtering
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氢等离子体溅射沉积碳层的侵蚀行为
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Fukada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.;Okamura・K.;Katayama・K.;Imaoka・Y.;Uchida・M.;Nishikawa・S.;Fukada
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来自熔合机第一壁的瓷砖中的氚分布及其除氚技术
影响因子：
3.1
作者：
R. Penzhorn;N. Bekris;W. Hellriegel;H. Noppel;W. Nägele;H. Ziegler;R. Rolli;H. Werle;A. Haigh;A. Peacock
通讯作者：
A. Peacock
JT-60U 偏滤器区域中再沉积层的热特性
影响因子：
3.1
作者：
Y. Ishimoto;Y. Gotoh;T. Arai;K. Masaki;N. Miya;N. Oyama;N. Asakura
通讯作者：
N. Asakura
JT-60U石墨内壁氚滞留
影响因子：
1.7
作者：
K. Masaki;K. Kodama;T. Ando;M. Saidoh;M. Shimizu;T. Hayashi;K. Okuno
通讯作者：
K. Okuno
从熔合机中去除第一壁材料的可能技术
影响因子：
3.1
作者：
N. Bekris;C. Caldwell;L. Doerr;M. Glugla;R. Penzhorn;H. Ziegler
通讯作者：
H. Ziegler
氧气对 TFTR D-T 瓷砖烘烤过程中氚释放的影响
影响因子：
1.7
作者：
W. Shu;C. Gentile;C. Skinner;S. Langish;M. Nishi
通讯作者：
M. Nishi