Cluster Incorporation into A-Si:H Films Deposited Using H 2 +SiH 4 Discharge Plasmas
Cluster Incorporation into A-Si:H Films Deposited Using H 2 +SiH 4 Discharge Plasmas
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使用 H 2 SiH 4 放电等离子体沉积的 A-Si:H 薄膜中的簇合并
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Shiratani
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Toko;Y. Torigoe;K. Keya;H. Seo;N. Itagaki;K. Koga;M. Shiratani
