自己組織化ジブロック共重合体薄膜をポジ型/ネガ型混合レジストとして用いた電子線リソグラフィ
自己組織化ジブロック共重合体薄膜をポジ型/ネガ型混合レジストとして用いた電子線リソグラフィ
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使用自组装二嵌段共聚物薄膜作为混合正/负抗蚀剂的电子束光刻
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
石原直
中科院分区：
文献类型：
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作者：
鈴木裕之;米谷玲皇;割澤伸一;石原直
