Structural, chemical, and electrical characterisation of reactively sputtered WSx thin films
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DOI：
10.1016/0040-6090(95)08206-9
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发表时间：
1996-07
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
M. Regula;C. Ballif;J. Moser;F. Lévy
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Regula;C. Ballif;J. Moser;F. Lévy
