Plasma technologies for engineering of the direct energy band gap of silicon at quantum confinement size
Plasma technologies for engineering of the direct energy band gap of silicon at quantum confinement size
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用于在量子限制尺寸下设计硅直接能带隙的等离子体技术
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Koji Matsubara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Vladimir Svrcek;Mickael Lozac’h;Davide Mariotti;Koji Matsubara
