短パルスレーザープラズマのRF位相直接入射によるイオン源の開発
短パルスレーザープラズマのRF位相直接入射によるイオン源の開発
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采用射频相位直接注入短脉冲激光等离子体的离子源的研制
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
不破康裕
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Fuwa;S. Ikeda;M. Kumaki;M. Sekine;N. Munemoto;D. Cinquegrani;M. Romanelli;T. Kanesue;M. Okamura;Y. Iwashita;長縄直崇;Kentaro Miuchi;中 竜大;不破康裕
