Epitaxial growth of thin copper layers on Cu(111) studied by high-resolution low-energy-electron-diffraction
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DOI：
10.1016/0039-6028(90)90692-2
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发表时间：
1990-05
期刊：
影响因子：
1.9
通讯作者：
G. Meyer;J. Wollschläger;M. Henzler
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G. Meyer;J. Wollschläger;M. Henzler
