シリコンカーバイド極限環境用集積回路および画素デバイスの研究
シリコンカーバイド極限環境用集積回路および画素デバイスの研究
复制标题
碳化硅极端环境集成电路及像素器件研究
DOI：
--
复制
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
田中 保宣
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
黒木 伸一郎; 志摩 拓真; 目黒 達也; Vuong Van Cuong; 武山 昭憲; 牧野 高紘; 大島 武; 児島 一聡; 田中 保宣
